PiBond参加了在中国、佛山举行的“国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）”，并发表两篇文章概述了近期在硅基光刻胶（Silicon-based PR, Si-PR） 技术方面所取得的进展。Oct 21st 2021

PiBond致力于开发一系列特有的、具有不同特性的可图形化的硅基光刻胶 （patternable Silicon-based PR）等。其可调节的特性包括：硅含量、固化温度、可图形化波长和膜厚等等。根据特性或需求不同，Si-PR例如可用作光刻应用中的可图案化的中间层或用作永久的、可图形化的SiO₂类介电层。本次指出三种硅基光刻胶（Si-PR）的潜在应用：第一种是用于聚酰亚胺图形上的可图形化SiO₂类的硬掩模、其次是可直接图形化的SiO₂类介电材料和另一种用于电子束应用的高分辨率光刻胶。

IWAPS为来自世界各地的工业界和研究机构的专家提供了一个论坛，用于介绍和讨论先进图形解决方案以及相关的挑战，如材料、设备、工艺、量测、计算光刻和设计优化。

PiBond于2021年10月28日至29日，在中国广东省佛山市举行的“国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）”。